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環(huán)控快訊

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環(huán)??破諀氨逃逸形成的原因

發(fā)布時間:2024-06-04 13:50:00
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    氨逃逸是影響選擇性催化還原(SCR)系統(tǒng)運行的一個重要參數。煙氣溫度直接影響選擇性非催化還原(SNCR)和SCR的反應效果,從而進一步影響氨逃逸的程度。合理控制鍋爐SCR出口的氨逃逸濃度可以有效預防鍋爐空氣預熱器堵塞,并減輕氨水對下游設備的腐蝕。因此,在SCR脫硝裝置的運行過程中,必須高度重視氨逃逸問題。

    高氨逃逸的原因有多個方面。在實際生產過程中,通常會有超過理論所需量的氨到達反應器,反應后煙氣中剩余的氨即為氨逃逸。氨逃逸濃度是以單位體積內氨含量來表示的。

    為了達到環(huán)保要求,通常需要添加一定過量的氨。因此,也會存在一個適當的氨逃逸值,該值被設計為不超過5ppm。然而,在實際運行中,氨逃逸值往往偏大,主要原因如下:

    (1)氨噴槍的氨噴射量分布不均,煙氣中存在局部氨水分布不均,煙氣流速不均勻,導致各噴槍出口的氨噴射量差異較大,高濃度區(qū)域的氨逃逸相對較高。

    (2)煙氣溫度是個關鍵因素。反應溫度過低會降低NOx與氨的反應速率,導致大量NH?逃逸。而反應溫度過高則會導致額外的NO生成。如果溫度過高或過低,將無法達到預期的反應效果,從而增加氨逃逸的風險。

    (3)催化劑堵塞會導致脫硝效率下降。為了確保環(huán)保參數不超標,往往會增加氨噴射量,這會引發(fā)惡性循環(huán)。催化劑局部堵塞和性能老化導致催化效率不同,為了控制出口參數,只能增加氨噴射量,進而導致局部氨逃逸增加。

    (4)噴槍霧化風量偏小會導致氨水與煙氣不能充分混合,從而產生大量的氨逃逸。

    (5)氨水濃度也是一個重要因素。由于氨水濃度的配置難以精確控制,很多情況下僅憑感覺進行配置。目前,針對鍋爐而言,氨水濃度一般較高,氨水調閥開度過小,霧化效果不佳,容易導致氨逃逸增加,操作上存在一定的困難。

    (6)燃燒波動時,SNCR入口煙氣中NOx濃度會劇烈波動。為了機械地實現“達標排放”,往往會增加氨噴射量。然而,過量的氨水可能導致氨逃逸增加,直接危及爐后設備和系統(tǒng)的安全運行。

    以上是對逃逸氨原因的簡要介紹。PreGASS-3500便攜式氨氣分析儀(氨氣檢測儀)采用基于近紅外可調諧半導體激光吸收光譜(TDLAS)技術原理,通過對特定波長的氣體吸收譜線進行掃描分析,結合波長調制技術,提取與氣體濃度相關的諧波信號,從而實現對NH3氨氣濃度的快速、準確測量。同時,該儀器使用全程高溫伴熱的直接抽取法,確保了煙氣取樣的真實性和代表性,在避免NH3氨氣吸附和銨鹽結晶的同時,能夠滿足國內脫硝(SNCR,SCR,活性焦脫硝等)、氨法脫硫工況條件下(高粉塵濃度、高/低溫、高濕等)的要求,實現對氨濃度的快速、準確檢測。

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